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纳米级粉体设备高抗拉抛光分散性机
  • 产品型号:GMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2027-06-09
  • 访  问  量:558
简略描写:

纳米粉体高剪切研磨分散机,该设备专为破解纳米粉体强团聚难题设计,集成高剪切分散与研磨功能。通过超 18000rpm 高速转定子产生强剪切力,配合研磨介质撞击,高效破碎团聚体并细化至纳米级。可精准控粒径、适配多物料,保障分散均匀稳定,助力新能源、医药等领域实现粉体材料高性能应用。

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产品详情

纳米粉体高剪切研磨分散机

纳米级纳米粉体的离心分离是基础知识探析行业和工业生产能力性部门乃至每一位员工绝大多数面对的科目,其具有广泛性应用必将具有广泛性,如化工类、医疗器械、水性涂料、资料、食品原料等。离心分离能力性往往是的提升商性能方面量和性能方面及的提升生产的技术成功率不ke少,而是是甚为决定性的能力性有效途径。

可是主要是因为微米粉末粒级小,更易制造自愿凝并,展现出明显的聚团形态,不说在气体中依然是在色谱仪两类易进行孔径越大的2次粉末,聚团的报告单促使微米粉末的原相关物料机械机械性能的厉害劣化。另外一个部分,在结合的原相关物料的准备过程中 中,主要是因为微米粉末的这一种明显探亲形态和它与结合基体的原相关物料的旋光性地域差异,微米粉末不好一致地消减在基体的原相关物料中进行均质结合的原相关物料,是结合的原相关物料的机械机械性能无法达到朋友目标的作用。

纳米粉体高剪切研磨分散机


所以为了解决这一问题,各种类型的分散设备应运而生,粉体的分散、混合与均化在粉体技术中有三个目的。其一是使团聚粉体的碎解和分散,尽力使团聚粉体达到单粉体分散;其二是在粉体制备过程中由于各部分或前后生产的产品的成分或粒度不均匀,而在使用时需要性能均一的粉体材料,为了消除各部分性能上的差异,需要对粉体材料进行分散、混合与均化处理;其三是,有些粉体材料需要进行改性处理,为了保证改性处理的均一性,也需要进行分散、混合与均化处理。

目前对于纳米粉体的分散,一般采用以下几种设备:


一、超声分散机,超声方式分散,对于小批量的物料还行,但无法放大生产。
二、机械搅拌分散机,这种在工业化分散中比较常见,但是由于自身的结构,转速低,分散有死角,导致*终分散效果差,并且分散的效率很低。
三、混合分散机,这种分散机适合高粘度的物料的分散,电机功率大,但是也存在和机械搅拌分散机一样的问题,分散效率低,效果差。

随着纳米粉体分散的进一步发展,SID研发出的分散设备-研磨分散机。结构为胶体磨头+分散头定转子,先研磨打开团聚体,在瞬时通过分散工作组进行分散,分散效率快,分散效果好。

SID研磨分散机在纳米粉体的分散中有着突出的应用和优势,如石墨烯、碳纳米管、二氧化硅、纳米树脂、纳米涂料、医药纳米混悬液等都有着成功的经验和案例。

SID研磨分散机的研发初衷就是为了解决纳米物料分散,解决粉体分散到液体中,二次团聚的问题。GMD2000系列研磨分散设备是SID公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三层高剪切均质乳化机进行改装,我们将三层变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

纳米粉体高剪切研磨分散机

纳米粉体高剪切研磨分散机设备参数表:

研磨抛光发散机

的流量*

所在

线流速

电功率

通道口/用于出口拼接

类行

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量的数据决定于于设立的齿隙和被加工处理物料管理的因素,另外流量的数据能否被调结到最高支持量的 10%。





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